为什么是她自己主攻这个项目呢，那是因为，光刻机是芯片研发的“卡脖子”核心设备。

要知道，不管是北斗卫星的导航芯片还是计算机项目的核心处理器，都得靠光刻机才能生产，要是没有这个设备，那这两个项目就全成了“空中楼阁”。

现下的别说国内连台能做精密加工的普通机床都得靠进口，更别说光刻机这种能刻出微米级电路的“国之重器”了，国外这会儿也都还没有摸到光刻机研发的门槛呢。

要研发光刻机最难的技术问题，首当其冲的是光学系统的精密适配。

光刻机刻蚀电路依赖的“光刀”，不仅需要稳定的能量输出，更要通过多组镜片实现光束聚焦与路径校准。

当前压根没有高精度光学加工设备，实验室里的镜片要么是从旧相机、望远镜里拆的二手货，要么是机修组用手工研磨的简易镜片，表面平整度误差常超过5微米，远达不到光刻要求的0.5微米标准。

其次是光刻胶的自主研发。

光刻时需要在硅片表面涂覆光刻胶，光束照射后，光刻胶会发生化学变化，再通过显影、蚀刻形成电路图案。

可当时国内没有专用光刻胶，只能用进口的普通感光胶替代，这种胶敏感度极低，要么曝光不足导致电路图案模糊，要么曝光过度让胶层开裂。所以，没有适配的光刻胶，也就无法稳定刻蚀电路。_c